光刻机开发得怎么样了？

在这个过程中，重要的就是光刻机。要想生产高端工艺的芯片，首先要有高端的光刻机。

　　目前光刻系统中常用的深紫外准分子激光器是 248nm 波长的氟化氪激光器和 193nm 波长的氟化氩激光器。

　　通常，准分子激光器设计为与特定的气体混合物结合在一起。因此，改变波长不是一件容易的事，因为产生新波长的方法是完全不同的，并且材料的吸收特性会发生变化。

　　例如，空气开始在 193nm 波长附近吸收效果显著增强，当移动到亚 193nm 波长时就需要在光刻工具上安装真空泵和吹扫设备，这是难度很高的操作，所以缩短波长以达到更高精度的光刻效果技术要求非常之高。

　　受激准分子激光，是一种紫外激光，通常用于生产微电子器件，半导体集成电路，也用于眼科手术和显微机械的加工。

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