国产光刻机对比欧洲光刻机差距太大吗？

我国的芯片制造到底是受哪些技术制约，光刻机哪些技术受制约？

　　集成电路这一块我们目前水平和西方国家还是有不小差距，受制于地方主要这两方面影响大一点，其它方面也是有。一就是这个芯片的架构都是由ARM公司提供授权，设计芯片需要它这个架构。第

　　二就是这个设计芯片所需要的辅助EDA软件，这些基本也是西方国家占据优势。我们国内也是有一些EDA软件，但是因为国外的一些EDA盗版软件在国内横行，这些国内厂商也是难以翻身。从实际使用来看，国内软件与国外还是有部分差距。

　　其实这种放任盗版策略就像微软公司放任Windows系统盗版横行一个样，它的目的就是限制你的国产系统和软件的发展。国内也是可以做光刻机，例如上海微电子设备有限公司也是可以生产光刻机，但是与光刻机巨头荷兰ASML技术不是一个级别。

　　目前来说国产光刻机还是以90nm为主，中微半导体做的蚀刻机达到了比较高的水平12nm，而在早两年前ASML的光刻机就可以做7nm手机处理器。光刻机所需要关键部件就是镜头，这个镜头是由德国蔡司公司提供。蔡司的镜头不对我们出售，它的镜头技术得到了几十年的技术沉淀，同时它也是ASML大股东，给荷兰ASML提供顶尖的镜头。

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