国内光刻机技术跟先进光刻机的技术差距有多大

对于很多科技企业来说都非常的“芯”痛，华为的5G技术领先全球让M国不爽，加上Z国的崛起，科技技术比重的增加，M国把众多科技企业列入“实体清单”，包括中兴，华为。

　　目前国内的最高技术上海微电子的90nm制程，和荷兰的ASML有10年以上差距。要知道芯片制造非常复杂，原因在于只有将良品率控制在90%上下，才不会亏本。但是，芯片的制造工序一千起步，这就导致，哪怕每一步合格率都有99%，最终良率都会在0.9*0.9的多次累积下，趋近于0。因此，要想不亏本，每个步骤的合格率就得控制在99.99%乃至99.999%以上。

　　而要达到如此高的合格率，对生产设备的精密程度要求就相当高，而我国差就差在拥有这么精密的设备后配套的相关工程人员。

　　而像可以生产华为的麒麟1000的光刻机，单台设备里超过十万个零件、4万个螺栓，以及3000多条线路。更重要的是，这样精密的设备远不像电视一样，信号不好拍拍即可

　　并且，光刻机每开动一段时间，就必须联系专门的服务人员上门调校。荷兰光刻机巨头ASML阿斯麦曾有一个客户，要更换光器件；由于当时阿斯麦的工程师无法出国，便邀请客户优秀员工到公司学习，用了近2个月，才仅仅掌握了单个零部件更换的技能。

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