国内光刻机技术跟先进光刻机的技术差距有多大

目前国内的最高技术上海微电子的90nm制程，和荷兰的ASML有10年以上差距。要知道芯片制造非常复杂，原因在于只有将良品率控制在90%上下，才不会亏本。但是，芯片的制造工序一千起步，这就导致，哪怕每一步合格率都有99%，最终良率都会在0.9*0.9的多次累积下，趋近于0。因此，要想不亏本，每个步骤的合格率就得控制在99.99%乃至99.999%以上。

　　而要达到如此高的合格率，对生产设备的精密程度要求就相当高，而我国差就差在拥有这么精密的设备后配套的相关工程人员。

　　当今厉害的光刻机制造商是荷兰的ASML，它垄断了全球14nm以上的高端光刻机市场，特别是7nm以上光刻机更是100%垄处于断地位。

　　而像可以生产华为的麒麟1000的光刻机，单台设备里超过十万个零件、4万个螺栓，以及3000多条线路。更重要的是，这样精密的设备远不像电视一样，信号不好拍拍即可，十年前，2个高精度实验室里价值4亿元的仪器突然失灵，而原因居然是位于地下13.5米深的北京4号线经过了北大东门产生了1Hz~10Hz的震动，为此北大高精度实验室不得不集体搬家。

　　并且，光刻机每开动一段时间，就必须联系专门的服务人员上门调校。荷兰光刻机巨头ASML阿斯麦曾有一个客户，要更换光器件；由于当时阿斯麦的工程师无法出国，便邀请客户优秀员工到公司学习，用了近2个月，才仅仅掌握了单个零部件更换的技能。

　　所以，对于近期国家把芯片专业化为“一级学科”意义重大，也透露出决心做好芯片开发的事宜，而最重要的是除了芯片设备的研发加速外，还有更重要的是相关技术人才、设备服务人才的培养，最终才可实现摆脱国外对芯片的控制。

　　对此，位于科技之都的深圳宝安，骏翔U8园区打造以智能高新技术产业为主导,大力支持高新技术研发和人才培养，集智慧城市、智能家居、智能穿戴、智能交通、智慧医疗、物联网、绿色生态于一体的智慧产业园区。

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