简单的了解一下光刻机工作的技术原理

来简单的了解一下光刻机工作的技术原理。当我们制作芯片的时候，电路图经过光刻机投放至底片（涂满光刻胶的硅片），光刻机不断蚀刻掉光刻胶，露出硅面之后做化学处理，不断反复的蚀刻，直到芯片制作完成。

　　这里面有两点要求较高，一个是光刻机的中心镜头，一个是光刻机的光源。

　　大家应该知道，ASML公司光刻机的镜头来自德国蔡司，光源由美国CYMER公司独家提供。光刻机的中心镜头对于镜头要求较高，需要高纯度透光以及高抛光，能够达到这一标准的公司并不多（光刻机工艺制程越高，要求也就越高）。

　　镜头的打磨对于匠人的技术要求等级较高，并非是工业化能够解决的问题，需要十几年甚至是上百年的技术沉淀。光刻机光刻机，对于光源的要求更是重中之重，需要体积小、功率高、稳定性强的光源（这也是制约我国光刻机向高端进军继续解决的难题）。

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