刻蚀机和光刻机有什么区别？

在半导体设备以及半导体原材料与国外存在很大的差距，尤其是光刻机，一个极其讲究高、精、尖技术为一体的生产设备经过几十年的发展依然无法取得重大的突破。

　　（1）难易度：光刻机难度大，刻蚀机难度小

　　（2）原理：光刻机把图案印上去，刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案/无图的部分，留下剩余的部分。

　　（3）工艺操作不同

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