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首先我们要明确现在讨论的是高端光刻机,生产5-7nm的生产工艺的光刻机,他制造难度真的比原子弹还大,答案是肯定的,你可能又要问了,在那个一穷二白的年代里,我们还能造出原子弹和氢弹,把人造卫星送上天。
在现在科技发达的今天,我们制造一台光刻机居然比造原子弹还难。
首先我们了解下在芯片制作出来的三大步骤,上游芯片设计公司比如华为海思通过EDA软件将芯片设计出来,交给台积电利用半导体的工艺流程制作出来,再交然后交给下游的封装测试厂,最后就变成大家平时芯片了,光刻机分为几种:有用于生产芯片的光刻机;有用于封装的光刻机;还有用于LED制造领域的投影光刻机。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板,国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口,
光刻机是利用光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光,光刻胶见光后会发生性质变化,从而使光罩上的图形复印到薄片上,从而使薄片具有电子线路图的作用。这就是光刻的作用,类似照相机照相。照相机拍摄的照片是印在底片上,而光刻刻的不是照片,而是电路图和其他电子元件。
标签:深圳激光刻码机
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